米国で開催されるシンポジウム”SPIE Advanced Lithography + Patterning”において2件のポスター発表を行います
論文3編がJournal of Vacuum Science &Technologyに掲載されました
Beyond Next VenturesのINSIGHTより当社西谷を取材頂きました
応用物理学会次世代リソグラフィ(NGL)技術研究会(*)の「次世代リソグラフィワークショップ(NGL2022)」に当社の西谷智博が登壇します