2022年7月7日（木）～8日（金）に開催される応用物理学会次世代リソグラフィ(NGL)技術研究会(*)の「次世代リソグラフィワークショップ(NGL2022)」に当社の西谷智博が登壇します。

*Next Generation Lithography Research Committee

 

講演日時：２０２２年７月８日（金）　１４：３０～

場所：オンライン

テーマ：「半導体フォトカソードによる選択的電子ビーム照射技術を用いた電子顕微鏡像」
西谷智博1,2、飯島北斗1、荒川裕太1、野田尚太郎1、小泉淳1、佐藤大樹1,2、鹿野悠1,2、本田善央2、天野浩2　（1. 株式会社フォトエレクトロンソウル、2. 名古屋大学）

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