当社は、パシフィコ横浜で2026年4月20-24日に開催されるOPTICS & PHOTONICS International Congress 2026 (OPIC 2026)において、窒化ガリウム（GaN）の新たな産業展開である「電子ビーム源デバイスとしてのGaN半導体材料」について招待講演します。
GaN半導体材料はこれまで、光源デバイスやパワーデバイスの必須材料として産業の発展を牽引してきました。
そして、次なる展開として当社が押し進めているのが「電子ビーム源デバイスとしてのGaN半導体材料」です。
本招待講演では、同技術による半導体検査・計測での革新的なアプリケーションを紹介、GaN半導体材料の更なる可能性を提示します。
■ 会議概要
•名 称：OPTICS & PHOTONICS International Congress 2026
•開催期間：2026年4月20日(月)～24日(金)
•開催場所：パシフィコ横浜 会議センター
■ 招待講演内容
•日時：2026年4月21日（火）15:00 – 15:30
•タイトル：GaN Photoemission-Based Electron Beam Devices Enabling Innovative Metrology and Inspection in Semiconductor Manufacturing
•講演者：西谷 智博（株式会社Photo electron Soul）
•備考：OPIC2026を構成する専門会議の一つLEDIA2026内での講演