米国で開催されるシンポジウム’SPIE Advanced Lithography + Patterning’において次の通りポスター発表を行います。
SPIE Advanced Lithography + Patterning
開催期間：2025年2月23日～2月27日
開催場所：サンノゼ, カリフォルニア州, 米国
発表内容
High-speed modulation of probe current using scanning electron microscope with photocathode technology
2025年2月26日 5:30 PM – 7:00 PM 米国太平洋標準時 | Convention Center, Hall 2