米国で開催されるシンポジウム’SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024’において次の３件のポスター発表を行います。
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024
開催期間：2024年2月26日～2月29日
開催場所：サンノゼ, カリフォルニア州, 米国
発表内容
1. Photoelectron beam from semiconductor photocathodes leading to newinspection technologies
2024年2月28日 5:30 PM – 7:00 PM 米国太平洋標準時 | Convention Center, Hall 2
2. Local voltage contrast changes in MOSFET using scanning electron microscopy with photoelectron beam technology
2024年2月28日 5:30 PM – 7:00 PM 米国太平洋標準時 | Convention Center, Hall 2
3.SEM imaging of high aspect ratio trench by selectively controlling the electron beam irradiation using photocathode
2024年2月28日 5:30 PM – 7:00 PM 米国太平洋標準時 | Convention Center, Hall 2