米国で開催されるシンポジウム”SPIE Advanced Lithography + Patterning”において２件のポスター発表を行います

米国で開催されるシンポジウム’SPIE Advanced Lithography + Patterning’において次の２件のポスター発表を行います。

開催期間：2023年2月26日～3月2日
開催場所：カリフォルニア, 米国
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発表内容
1. Photoelectron beam technology for SEM imaging with pixel-specific control of irradiation beam current
Tomohiro Nishitani, Yuta Arakawa, Shotaro Noda, Atsushi Koizumi, Daiki Sato, Haruka Shikano, Hokuto Iijima, Yoshio Honda, Hiroshi Amano
2023年3月1日 5:30 PM – 7:00 PM 米国太平洋標準時 | Convention Center, Hall 2

2. Novel electron beam technology by InGaN photocathode for high throughput SEM imaging
Daiki Sato, Atsushi Koizumi, Haruka Shikano, Shotaro Noda, Yohei Otsuka, Daisuke Yasufuku, Kazumasa Mori, Hokuto Iijima, Tomohiro Nishitani, Yoshio Honda, Hiroshi Amano
2023年3月1日 5:30 PM – 7:00 PM 米国太平洋標準時 | Convention Center, Hall 2